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艺术学厕拍 SK海力士将更环保气体期骗于芯片清洁工艺

发布日期:2024-07-25 23:44    点击次数:120

艺术学厕拍 SK海力士将更环保气体期骗于芯片清洁工艺

SK海力士已将其在芯片坐褥的一些清洁工艺形状中使用的气体替换为更环保的气体。该公司进行了用大家变暖潜值 (GWP) 较低的气体替代三氟化氮 (NF3) 的测试。现在艺术学厕拍,该厂商已用GWP为0的F2气体取代了一些工艺形状。 (the elec)